Item type |
SIG Technical Reports(1) |
公開日 |
2024-11-05 |
タイトル |
|
|
タイトル |
スパースガウス過程回帰に基づく極低温トランジスタ電流モデリング |
タイトル |
|
|
言語 |
en |
|
タイトル |
Cryogenic Transistor Current Modeling Based on Sparse Gaussian Process Regression |
言語 |
|
|
言語 |
jpn |
資源タイプ |
|
|
資源タイプ識別子 |
http://purl.org/coar/resource_type/c_18gh |
|
資源タイプ |
technical report |
著者所属 |
|
|
|
京都工芸繊維大学 |
著者所属 |
|
|
|
京都大学大学院情報学研究科 |
著者所属 |
|
|
|
京都工芸繊維大学 |
著者所属 |
|
|
|
京都工芸繊維大学 |
著者所属(英) |
|
|
|
en |
|
|
Kyoto Institute of Technology |
著者所属(英) |
|
|
|
en |
|
|
Kyoto University |
著者所属(英) |
|
|
|
en |
|
|
Kyoto Institute of Technology |
著者名 |
岩崎, 哲朗
佐藤, 高史
新谷, 道広
|
著者名(英) |
Tetsuro, Iwasaki
Takashi, Sato
Michihiro, Shintani
|
論文抄録 |
|
|
内容記述タイプ |
Other |
|
内容記述 |
本研究では,スパースガウス過程回帰(Sparse Gaussian process regression,SGPR)を用いて極低温環境下の CMOS トランジスタ特性をモデリングする手法を提案する.標準トランジスタモデルの温度範囲は -55℃ から 125℃ であるが,低温で動作する応用が急速に拡大している.提案手法では,ガウス過程回帰の近似計算手法である SGPR を用いて,室温から極低温まで動作する CMOS 回路をシミュレーションするためのトランジスタ電流モデルを構築する.また,提案手法は低電流領域と高電流領域の学習を個別に行い,それらをスムージング関数で滑らかに接続することで,遮断領域から飽和領域までの広範なバイアス条件もシミュレーション可能である.65 nm および 22 nm プロセスで製造した nMOS,pMOS トランジスタを用いた評価においては,3 K から 300 K までの電流特性を学習して生成したモデルを市販 SPICE シミュレータに組み込み,正確にシミュレーションできることを示す. |
論文抄録(英) |
|
|
内容記述タイプ |
Other |
|
内容記述 |
In this study, we propose a method for modeling CMOS transistor characteristics under cryogenic conditions using Sparse Gaussian process regression (SGPR). The temperature range of the standard transistor model is from -55℃ to 125℃, but applications operating at low temperatures are rapidly expanding. The proposed method constructs a transistor current model to simulate CMOS circuits operating from room temperature to cryogenic temperatures using SGPR, which is an approximate Gaussian process regression method. The proposed method can simulate a wide range of bias conditions from the cutoff region to the saturation region by learning low-current and high-current regions separately and connecting them smoothly with a smoothing function. In the evaluation using nMOS and pMOS transistors fabricated on 65 nm and 22 nm processes, the model generated by learning the current characteristics from 3 K to 300 K is incorporated into a commercial SPICE simulator, showing that the simulation can be performed accurately. |
書誌レコードID |
|
|
収録物識別子タイプ |
NCID |
|
収録物識別子 |
AA11451459 |
書誌情報 |
研究報告システムとLSIの設計技術(SLDM)
巻 2024-SLDM-207,
号 34,
p. 1-6,
発行日 2024-11-05
|
ISSN |
|
|
収録物識別子タイプ |
ISSN |
|
収録物識別子 |
2188-8639 |
Notice |
|
|
|
SIG Technical Reports are nonrefereed and hence may later appear in any journals, conferences, symposia, etc. |
出版者 |
|
|
言語 |
ja |
|
出版者 |
情報処理学会 |