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アイテム
フォトマスクの欠陥検出手法の検討
https://ipsj.ixsq.nii.ac.jp/records/236124
https://ipsj.ixsq.nii.ac.jp/records/236124e07576ee-57dd-4edc-99f5-f94886ae0c80
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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IPSJ-Z86-2T-02.pdf (521.6 kB)
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Copyright (c) 2024 by the Information Processing Society of Japan
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| Item type | National Convention(1) | |||||||||||||||||
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| 公開日 | 2024-03-01 | |||||||||||||||||
| タイトル | ||||||||||||||||||
| タイトル | フォトマスクの欠陥検出手法の検討 | |||||||||||||||||
| 言語 | ||||||||||||||||||
| 言語 | jpn | |||||||||||||||||
| キーワード | ||||||||||||||||||
| 主題Scheme | Other | |||||||||||||||||
| 主題 | 人工知能と認知科学 | |||||||||||||||||
| 資源タイプ | ||||||||||||||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_5794 | |||||||||||||||||
| 資源タイプ | conference paper | |||||||||||||||||
| 著者所属 | ||||||||||||||||||
| 秋田大 | ||||||||||||||||||
| 著者所属 | ||||||||||||||||||
| 秋田大 | ||||||||||||||||||
| 著者所属 | ||||||||||||||||||
| 秋田大 | ||||||||||||||||||
| 著者所属 | ||||||||||||||||||
| DOWAセミコンダクター秋田 | ||||||||||||||||||
| 著者所属 | ||||||||||||||||||
| DOWAエレクトロニクス株式会社 | ||||||||||||||||||
| 著者所属 | ||||||||||||||||||
| DOWAエレクトロニクス株式会社 | ||||||||||||||||||
| 著者名 |
下迫, 響
× 下迫, 響
× 鄒, 敏
× 景山, 陽一
× 山田, 雄大
× 間舩, 修一
× 柴田, 智彦
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| 論文抄録 | ||||||||||||||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||||||||||||||
| 内容記述 | 現在，半導体製造工程の露光において使用されるフォトマスクの検査は，作業員の目視検査により行われている．しかし，現状では目視のみで確認できる大きな欠陥が確認された場合に交換されており，フォトマスクの微小な欠陥数を確認できない場合がある．加えて，目視検査には欠陥部分の見落としや，検出できない微細な欠陥部分の存在，作業員による精度のばらつき，作業員への負担が大きいといった問題が存在する．上記課題を解決するために，本研究ではフォトマスク内の欠陥数の把握や使用限界を判断するためのアルゴリズムの開発を目的とする．本稿では画像処理を用いて，正常画像と欠陥画像を分類する手法の検討を行った． | |||||||||||||||||
| 書誌レコードID | ||||||||||||||||||
| 収録物識別子タイプ | NCID | |||||||||||||||||
| 収録物識別子 | AN00349328 | |||||||||||||||||
| 書誌情報 |
第86回全国大会講演論文集 巻 2024, 号 1, p. 575-576, 発行日 2024-03-01 |
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| 出版者 | ||||||||||||||||||
| 言語 | ja | |||||||||||||||||
| 出版者 | 情報処理学会 | |||||||||||||||||
