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  1. 研究報告
  2. システムとLSIの設計技術(SLDM)
  3. 2023
  4. 2023-SLDM-204

α線照射による65nmバルクプロセスにおけるPMOS及び NMOSトランジスタのSEU感度

https://ipsj.ixsq.nii.ac.jp/records/228873
https://ipsj.ixsq.nii.ac.jp/records/228873
68fb8b3e-9d84-4d20-9bfb-e7229120200b
名前 / ファイル ライセンス アクション
IPSJ-SLDM23204006.pdf IPSJ-SLDM23204006.pdf (2.6 MB)
Copyright (c) 2023 by the Institute of Electronics, Information and Communication Engineers This SIG report is only available to those in membership of the SIG.
SLDM:会員:¥0, DLIB:会員:¥0
Item type SIG Technical Reports(1)
公開日 2023-11-10
タイトル
タイトル α線照射による65nmバルクプロセスにおけるPMOS及び NMOSトランジスタのSEU感度
タイトル
言語 en
タイトル Evaluation of SEU Sensitivity by Alpha-Particle on PMOS and NMOS Transistors in a 65 nm Bulk Process
言語
言語 jpn
キーワード
主題Scheme Other
主題 信頼性
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_18gh
資源タイプ technical report
著者所属
京都工芸繊維大学
著者所属
京都工芸繊維大学
著者所属
京都工芸繊維大学
著者所属
京都工芸繊維大学
著者所属
京都工芸繊維大学
著者所属
京都工芸繊維大学
著者所属(英)
en
Kyoto Institute of Technology
著者所属(英)
en
Kyoto Institute of Technology
著者所属(英)
en
Kyoto Institute of Technology
著者所属(英)
en
Kyoto Institute of Technology
著者所属(英)
en
Kyoto Institute of Technology
著者所属(英)
en
Kyoto Institute of Technology
著者名 吉田, 圭汰

× 吉田, 圭汰

吉田, 圭汰

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中島, 隆一

× 中島, 隆一

中島, 隆一

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杉谷, 昇太郎

× 杉谷, 昇太郎

杉谷, 昇太郎

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伊藤, 貴史

× 伊藤, 貴史

伊藤, 貴史

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古田, 潤

× 古田, 潤

古田, 潤

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小林, 和淑

× 小林, 和淑

小林, 和淑

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著者名(英) Keita, Yoshida

× Keita, Yoshida

en Keita, Yoshida

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Ryuichi, Nakajima

× Ryuichi, Nakajima

en Ryuichi, Nakajima

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Shotaro, Sugitani

× Shotaro, Sugitani

en Shotaro, Sugitani

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Takafumi, Ito

× Takafumi, Ito

en Takafumi, Ito

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Jun, Furuta

× Jun, Furuta

en Jun, Furuta

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Kazutoshi, Kobayashi

× Kazutoshi, Kobayashi

en Kazutoshi, Kobayashi

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論文抄録
内容記述タイプ Other
内容記述 本稿では,PMOS 及び NMOS トランジスタを独立させた Single Event Upsets (SEU) 感度の測定手法を検討した.65 nm バルクプロセスで設計した測定回路を用いてα線照射実験を行ったところ,PMOS トランジスタの SEU 感度は NMOS トランジスタの約 1/50 であった.拡散層の面積とエラー率は単純な比例関係ではないことがわかった.拡散層と shallow trench isolation (STI) の距離が近いほど,放射線により発生する電荷の収集が妨げられることをデバイスシミュレーションを用いて確認した.
論文抄録(英)
内容記述タイプ Other
内容記述 We investigate a method to measure the Single Event Upsets (SEU) sensitivity individually for PMOS and NMOS transistors. We performed ????-particle irradiation to a circuit fabricated in a 65 nm bulk process, . The SEU sensitivity of PMOS transistors is approximately 1/50 of that of NMOS transistors. Additionally, we investigated SEU rates by the drain area. The relationship between the area and SEU rates does not follow a linear function. We consider this phenomenon due to the proximity of the drain area to shallow trench isolation (STI), which prevents charge collection by a radiation strike.
書誌レコードID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AA11451459
書誌情報 研究報告システムとLSIの設計技術(SLDM)

巻 2023-SLDM-204, 号 6, p. 1-6, 発行日 2023-11-10
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 2188-8639
Notice
SIG Technical Reports are nonrefereed and hence may later appear in any journals, conferences, symposia, etc.
出版者
言語 ja
出版者 情報処理学会
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Ver.1 2025-01-19 11:41:13.143845
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