ログイン 新規登録
言語:

WEKO3

  • トップ
  • ランキング
To
lat lon distance
To

Field does not validate



インデックスリンク

インデックスツリー

メールアドレスを入力してください。

WEKO

One fine body…

WEKO

One fine body…

アイテム

  1. 研究報告
  2. システムとLSIの設計技術(SLDM)
  3. 2018
  4. 2018-SLDM-185

0-1二次計画法によるプロセスばらつきを考盧したモデルベースマスク補正手法

https://ipsj.ixsq.nii.ac.jp/records/192612
https://ipsj.ixsq.nii.ac.jp/records/192612
51e21c29-9a18-4cdd-9cc0-22eeabbb1e57
名前 / ファイル ライセンス アクション
IPSJ-SLDM18185040.pdf IPSJ-SLDM18185040.pdf (1.3 MB)
Copyright (c) 2018 by the Institute of Electronics, Information and Communication Engineers This SIG report is only available to those in membership of the SIG.
SLDM:会員:¥0, DLIB:会員:¥0
Item type SIG Technical Reports(1)
公開日 2018-11-28
タイトル
タイトル 0-1二次計画法によるプロセスばらつきを考盧したモデルベースマスク補正手法
タイトル
言語 en
タイトル Process Variation-aware Model-based OPC using 0-1 Quadratic Programming
言語
言語 jpn
キーワード
主題Scheme Other
主題 信頼性設計
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_18gh
資源タイプ technical report
著者所属
会津大学コンピュータ理工学部
著者所属
会津大学コンピュータ理工学部
著者所属
東京工業大学工学院
著者所属
東京工業大学工学院
著者所属
東芝メモリ株式会社
著者所属
東芝メモリ株式会社
著者所属(英)
en
School of Computer Science, the University of Aizu
著者所属(英)
en
School of Computer Science, the University of Aizu
著者所属(英)
en
Engineering College, Tokyo Institute of Technology
著者所属(英)
en
Engineering College, Tokyo Institute of Technology
著者所属(英)
en
Toshiba Memory Corporation
著者所属(英)
en
Toshiba Memory Corporation
著者名 東, 梨奈

× 東, 梨奈

東, 梨奈

Search repository
小平, 行秀

× 小平, 行秀

小平, 行秀

Search repository
松井, 知己

× 松井, 知己

松井, 知己

Search repository
高橋, 篤司

× 高橋, 篤司

高橋, 篤司

Search repository
児玉, 親亮

× 児玉, 親亮

児玉, 親亮

Search repository
野嶋, 茂樹

× 野嶋, 茂樹

野嶋, 茂樹

Search repository
著者名(英) Rina, Azuma

× Rina, Azuma

en Rina, Azuma

Search repository
Yukihide, Kohira

× Yukihide, Kohira

en Yukihide, Kohira

Search repository
Tomomi, Matsui

× Tomomi, Matsui

en Tomomi, Matsui

Search repository
Atsushi, Takahashi

× Atsushi, Takahashi

en Atsushi, Takahashi

Search repository
Chikaaki, Kodama

× Chikaaki, Kodama

en Chikaaki, Kodama

Search repository
Shigeki, Nojima

× Shigeki, Nojima

en Shigeki, Nojima

Search repository
論文抄録
内容記述タイプ Other
内容記述 半導体製造における回路パターンの限界寸法の縮小のため,光リソグラフィによる半導体加工技術の進歩が求められている.光リソグラフィの解像度を改善させる技術のうち,マスクの整形によってウエハ上に転写されるパタンの忠実性を改善する技術を光近接効果補正 (Optical Proximity Correction, OPC) と呼び,光リソグラフィにおいて微細化の重要な役割を担っている.一般に OPC によるマスク補正手法はルールベース OPC とモデルベース OPC の 2 つのクラスに分けられ,微細化が進むにつれてモデルベース OPC の研究が広く行われている.本稿では,マスク補正問題をターゲットのパタン辺周りの光強度コントラストの最大化させる 0-1 二次計画問題に定式化し,Forcing Rule,勾配中間法,勾配判定法のそれぞれによって解くことで,設計パタンへの忠実性とプロセスばらつきへのマージンを同時に向上させるmodel-based OPC を提案する.
論文抄録(英)
内容記述タイプ Other
内容記述 Due to continuous shrinking of Critical Dimensions (CD) of layout pattern in VLSI, advances of manufacturing process in optical lithography are required. As a main stream among resolution enhancement techniques, Optical Proximity Correction (OPC), which improves shape fidelity of formed patterns on wafers against designed target patterns by mask correction, is essential to achieve scale down of CD in the optical lithography. In general, mask correction methods in OPC are classified into two classes: rule-based OPC and model-based OPC. Recently, model-based OPC is broadly studied. In this paper, we propose a model-based OPC which formulates the maximization of contrast of intensity around edges of target patterns as 0-1 Quadratic Programming, and which is solved by using Forcing Rule, Gradient Midpoint Method or Gradient Deciding Method. By these proposed methods, shape fidelity and tolerance against process variation are improved simultaneously.
書誌レコードID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AA11451459
書誌情報 研究報告システムとLSIの設計技術(SLDM)

巻 2018-SLDM-185, 号 40, p. 1-6, 発行日 2018-11-28
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 2188-8639
Notice
SIG Technical Reports are nonrefereed and hence may later appear in any journals, conferences, symposia, etc.
出版者
言語 ja
出版者 情報処理学会
戻る
0
views
See details
Views

Versions

Ver.1 2025-01-20 00:04:26.552927
Show All versions

Share

Mendeley Twitter Facebook Print Addthis

Cite as

エクスポート

OAI-PMH
  • OAI-PMH JPCOAR
  • OAI-PMH DublinCore
  • OAI-PMH DDI
Other Formats
  • JSON
  • BIBTEX

Confirm


Powered by WEKO3


Powered by WEKO3