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  1. 研究報告
  2. システム・アーキテクチャ(ARC)
  3. 2022
  4. 2022-ARC-250

CapsNetを用いた高解像度ウェハマップの欠陥パターン分類法に関する考察

https://ipsj.ixsq.nii.ac.jp/records/220326
https://ipsj.ixsq.nii.ac.jp/records/220326
721e0e8f-3503-494e-a6bc-28e935e2d5eb
名前 / ファイル ライセンス アクション
IPSJ-ARC22250013.pdf IPSJ-ARC22250013.pdf (3.8 MB)
Copyright (c) 2022 by the Institute of Electronics, Information and Communication Engineers This SIG report is only available to those in membership of the SIG.
ARC:会員:¥0, DLIB:会員:¥0
Item type SIG Technical Reports(1)
公開日 2022-10-04
タイトル
タイトル CapsNetを用いた高解像度ウェハマップの欠陥パターン分類法に関する考察
タイトル
言語 en
タイトル A Study on Hi-Resolution Wafer Map Defect Pattern Classification Using CapsNet
言語
言語 jpn
キーワード
主題Scheme Other
主題 システムアーキテクチャ・デバイス
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_18gh
資源タイプ technical report
著者所属
東京都立大学院システムデザイン研究科電子情報システム工学域
著者名 山中, 祐輝

× 山中, 祐輝

山中, 祐輝

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永村, 美一

× 永村, 美一

永村, 美一

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新井, 雅之

× 新井, 雅之

新井, 雅之

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福本, 聡

× 福本, 聡

福本, 聡

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著者名(英) Yuki, Yamanaka

× Yuki, Yamanaka

en Yuki, Yamanaka

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Yoshukazu, Nagamura

× Yoshukazu, Nagamura

en Yoshukazu, Nagamura

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Masayuki, Arai

× Masayuki, Arai

en Masayuki, Arai

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Satoshi, Fukumoto

× Satoshi, Fukumoto

en Satoshi, Fukumoto

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論文抄録
内容記述タイプ Other
内容記述 半導体集積回路の製造におけるウェハマップの欠陥パターンは,不良発生の原因究明のための重要な情報を有している.近年,機械学習を用いたその分類技術が多数提案されている.本研究では,CapsNet を用いてウェハ上の欠陥パターンを分類した先行研究 [1] をさらに進めて,ダイ数が多いウェハに相当する高解像度なウェハマップでの分類精度を向上させることを目的とする.今回は,低解像度および高解像度ウェハマップそれぞれで分類精度を評価し,異なる解像度のウェハマップに対する分類の課題と CapsNet のデコーダの構造による影響について考察した.
書誌レコードID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AN10096105
書誌情報 研究報告システム・アーキテクチャ(ARC)

巻 2022-ARC-250, 号 13, p. 1-5, 発行日 2022-10-04
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 2188-8574
Notice
SIG Technical Reports are nonrefereed and hence may later appear in any journals, conferences, symposia, etc.
出版者
言語 ja
出版者 情報処理学会
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Ver.1 2025-01-19 14:36:12.234229
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