| Item type |
SIG Technical Reports(1) |
| 公開日 |
2022-10-04 |
| タイトル |
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タイトル |
CapsNetを用いた高解像度ウェハマップの欠陥パターン分類法に関する考察 |
| タイトル |
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言語 |
en |
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タイトル |
A Study on Hi-Resolution Wafer Map Defect Pattern Classification Using CapsNet |
| 言語 |
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言語 |
jpn |
| キーワード |
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主題Scheme |
Other |
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主題 |
システムアーキテクチャ・デバイス |
| 資源タイプ |
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資源タイプ識別子 |
http://purl.org/coar/resource_type/c_18gh |
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資源タイプ |
technical report |
| 著者所属 |
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東京都立大学院システムデザイン研究科電子情報システム工学域 |
| 著者名 |
山中, 祐輝
永村, 美一
新井, 雅之
福本, 聡
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| 著者名(英) |
Yuki, Yamanaka
Yoshukazu, Nagamura
Masayuki, Arai
Satoshi, Fukumoto
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| 論文抄録 |
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内容記述タイプ |
Other |
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内容記述 |
半導体集積回路の製造におけるウェハマップの欠陥パターンは,不良発生の原因究明のための重要な情報を有している.近年,機械学習を用いたその分類技術が多数提案されている.本研究では,CapsNet を用いてウェハ上の欠陥パターンを分類した先行研究 [1] をさらに進めて,ダイ数が多いウェハに相当する高解像度なウェハマップでの分類精度を向上させることを目的とする.今回は,低解像度および高解像度ウェハマップそれぞれで分類精度を評価し,異なる解像度のウェハマップに対する分類の課題と CapsNet のデコーダの構造による影響について考察した. |
| 書誌レコードID |
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収録物識別子タイプ |
NCID |
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収録物識別子 |
AN10096105 |
| 書誌情報 |
研究報告システム・アーキテクチャ(ARC)
巻 2022-ARC-250,
号 13,
p. 1-5,
発行日 2022-10-04
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| ISSN |
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収録物識別子タイプ |
ISSN |
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収録物識別子 |
2188-8574 |
| Notice |
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SIG Technical Reports are nonrefereed and hence may later appear in any journals, conferences, symposia, etc. |
| 出版者 |
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言語 |
ja |
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出版者 |
情報処理学会 |