剰余パターンの模様デザインへの応用

• Item type: SIG Technical Reports(1)
• 公開日: 1992-08-10
• タイトル: 剰余パターンの模様デザインへの応用
• タイトル / 言語: en
• タイトル: An Application of Residue Patterns to Graphic Design
• 言語: jpn
• 資源タイプ / 資源タイプ識別子: http://purl.org/coar/resource_type/c_18gh
• 資源タイプ: technical report
• 著者所属: 東京大学生産技術研究所 機能エレクトロニクス研究センター
• 著者所属: 東京大学生産技術研究所 機能エレクトロニクス研究センター
• 著者所属(英): en
• 著者所属(英): Center of Function - Oriented Electronics, Institute of Industrial Science, University of Tokyo
• 著者所属(英): en
• 著者所属(英): Center of Function - Oriented Electronics, Institute of Industrial Science, University of Tokyo
• 著者名: 坂元, 宗和; 高木, 幹雄
• 著者名(英): Munekazu, Sakamoto; Mikio, Takagi
• 論文抄録 / 内容記述タイプ: Other
• 論文抄録 / 内容記述: 2変数関数の剰余類を選んで平面上にプロットすると，思いがけない複雑なパターンが現れる．そのいくつかの論理和をとり，画像処理的に加工してジャギネスを抑えると，白黒の模様ができる．4枚の白黒模様を重ね，色番号を定義するビット・プレーンと見て，各色番号に重複して色価を割当てれば，新しいモチーフが出現し，カラー模様ができる．高品質の模様を作るには，適切な生成関数のパラメータ選択とデザイン加工が必要である．パラメータ選択が理論的な知識に基づくことは言うまでもないが，審美的判断を必要とする美術的応用の際は，応用分野における評価の基準を知らなければならない．
• 論文抄録(英) / 内容記述タイプ: Other
• 論文抄録(英) / 内容記述: To plot a residue class of a bivariate function on a lattice makes a complex pattern. By logically ORing such patterns and postprocessing its result we can make black-and-white planar patterns. Color patterns are made from four b/w patterns, each of which defines a bit plane of color number. After assigning color values to the numbers a color pattern with unpredicatable motifs emerges. In order to obtain high quality patterns, adequate set of parameters and retouching are necessary. Everyone knows that the theory tells good parameter values, but researchers without enough artistic background are often prone to look over that the easthetic evaluation is crucial.
• 書誌レコードID / 収録物識別子タイプ: NCID
• 書誌レコードID / 収録物識別子: AN10100541
• 書誌情報: 情報処理学会研究報告グラフィクスとCAD（CG）; 巻 1992, 号 63(1992-CG-058), p. 35-42, 発行日 1992-08-10
• Notice: SIG Technical Reports are nonrefereed and hence may later appear in any journals, conferences, symposia, etc.
• 出版者 / 言語: ja
• 出版者: 情報処理学会