シミュレーテッド量子アニーリングを用いたマスク最適化手法

• Item type: SIG Technical Reports(1)
• 公開日: 2021-11-24
• タイトル: シミュレーテッド量子アニーリングを用いたマスク最適化手法
• タイトル / 言語: en
• タイトル: Mask Optimization Method Using Simulated Quantum Annealing
• 言語: jpn
• キーワード / 主題Scheme: Other
• キーワード / 主題: DFMおよびモデリング手法
• 資源タイプ / 資源タイプ識別子: http://purl.org/coar/resource_type/c_18gh
• 資源タイプ: technical report
• 著者所属: 会津大学コンピュータ理工学部
• 著者所属: 会津大学コンピュータ理工学部
• 著者所属: 会津大学コンピュータ理工学部
• 著者所属: 東京工業大学工学院
• 著者所属: 東京工業大学工学院
• 著者所属: キオクシア株式会社
• 著者所属(英): en
• 著者所属(英): School of Computer Science, the University of Aizu
• 著者所属(英): en
• 著者所属(英): School of Computer Science, the University of Aizu
• 著者所属(英): en
• 著者所属(英): School of Computer Science, the University of Aizu
• 著者所属(英): en
• 著者所属(英): School of Engineering, Tokyo Institute of Technology
• 著者所属(英): en
• 著者所属(英): School of Engineering, Tokyo Institute of Technology
• 著者所属(英): en
• 著者所属(英): KIOXIA Corporation
• 著者名: 小平, 行秀; 中山, 晴貴; 野中, 尚貴; 松井, 知己; 高橋, 篤司; 児玉, 親亮
• 著者名(英): Yukihide, Kohira; Haruki, Nakayama; Naoki, Nakayama; Tomomi, Matsui; Atsushi, Takahashi; Chikaaki, Kodama
• 論文抄録 / 内容記述タイプ: Other
• 論文抄録 / 内容記述: 半導体プロセスの微細化のために，光リソグラフィ技術の進展が求められている．光リソグラフィの解像度を改善する技術のうち，ウェハ上に転写されるパタンの忠実性をマスク最適化によって改善する光近接効果補正 (Optical Proximity Correction, OPC) は，光リソグラフィ技術の進展において重要な役割を担っている．このマスク最適化問題は 0-1 2 次計画問題に定式化できることが知られている．近年，0-1 2 次計画問題を高速に解く量子アニーリングが注目を集めている．そこで本稿では，マスク最適化問題に対して，シミュレーテッド量子アニーリングを用いて，ターゲットパタンへの忠実性とプロセスばらつきへの耐性を持つマスクを生成する手法を検討する．計算機実験において，シミュレーテッド量子アニーリングを用いた手法と既存手法に対して，得られたマスクのターゲットパタンへの忠実性とプロセスばらつきへの耐性，計算時間について評価を行う．
• 論文抄録(英) / 内容記述タイプ: Other
• 論文抄録(英) / 内容記述: To realize continuously scaling down of technology node, progressing manufacturing process by optical lithography is required. In resolution enhancement techniques in the optical lithography, Optical Proximity Correction (OPC), which improves shape fidelity of formed patterns on wafers to designed target patterns by mask optimization, is essential. It is known that the mask optimization can be formulated as 0-1 Quadratic Programming problem (0-1QP). Recently, Quantum Annealing, which solves 0-1QP in a short computation time, has attracted attention. In this paper, we examine a method using Simulated Quantum Annealing (SQA) for the mask optimization problem to obtain a mask with high fidelity to target patterns as well as high tolerance to process variation. In experiments, we evaluate the method using SQA and existing methods in fidelity to target patterns, tolerance to process variation, and execution time.
• 書誌レコードID / 収録物識別子タイプ: NCID
• 書誌レコードID / 収録物識別子: AA11451459
• 書誌情報: 研究報告システムとLSIの設計技術（SLDM）; 巻 2021-SLDM-196, 号 37, p. 1-6, 発行日 2021-11-24
• ISSN / 収録物識別子タイプ: ISSN
• ISSN / 収録物識別子: 2188-8639
• Notice: SIG Technical Reports are nonrefereed and hence may later appear in any journals, conferences, symposia, etc.
• 出版者 / 言語: ja
• 出版者: 情報処理学会