@techreport{oai:ipsj.ixsq.nii.ac.jp:00027155,
 author = {杉原, 真 and 高田, 大河 and 中村, 健太 and 稲浪良市 and 林, 博昭 and 岸本, 克己 and 長谷部, 鉄也 and 河野, 幸弘 and 松永, 裕介 and 村上, 和彰 and 奥村, 勝弥 and Makoto, SUGIHARA and Taiga, TAKATA and Kenta, NAKAMURA and Ryoichi, INANAMI and Hiroaki, HAYASHI and Katsumi, KISHIMOTO and Tetsuya, HASEBE and Yukihiro, KAWANO and Yusuke, MATSUNAGA and Kazuaki, MURAKAMI and Katsuya, OKUMURA},
 issue = {102(2005-SLDM-121)},
 month = {Oct},
 note = {本稿では，電子ビーム直描で用いられるキャラクタプロジェクション法のスループットを向上するセルライプラリ開発手法について議論する．第一に，整数計画法に基づいたセル選択手法を提案する.製造時間 すなわちショット数が最小になるように，キャラクタプロジェクション法で描画するセルと，VSBで描画するセルを選択する.次に，セルの反転の有無が回路の面積と遅延に及ぼす影響を調査する.反転されたセルはCPアバーチヤマスク上では異なるものとして扱われるために，反転されたセルを削減することはより多くのセルをCPアバーチヤマスク上に搭載できることを意味する．最後に，ケーススタディを行い，提案手法の有効性を検証する., We propose a cell library development methodology for throughput enhancement of electron beam direct-write (EBDW) systems. First, an ILP (Integer Linear Programming)-based cell selection is proposed for EBDW systems in which both of the character projection (CP) and the variable shaped beam (VSB) methods are available, in order to minimize the number of electron beam (EB) shots, that is, time to fabricate chips. Secondly, the inInence of cell directions on area and delay time of chips is examined. The examination helps to reduce the number of EB shots with a little deterioration of area and delay time because unnecessary directions of cells can be removed to increase the number of cells on a CP aperture mask. Finally, a case study is shown in which the numbers of EB shots are examined under several cases.},
 title = {キャラクタプロジェクション法のためのセルライプラリ開発手法},
 year = {2005}
}