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キャラクタプロジェクション法のためのセルライプラリ開発手法
https://ipsj.ixsq.nii.ac.jp/records/27155
https://ipsj.ixsq.nii.ac.jp/records/27155f7905f6f-4d6f-44da-bbcb-d7ed4eb2235a
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
|---|---|---|
IPSJ-SLDM05121033.pdf (839.2 kB)
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Copyright (c) 2005 by the Information Processing Society of Japan
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| オープンアクセス | ||
| Item type | SIG Technical Reports(1) | |||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 公開日 | 2005-10-21 | |||||||
| タイトル | ||||||||
| タイトル | キャラクタプロジェクション法のためのセルライプラリ開発手法 | |||||||
| タイトル | ||||||||
| 言語 | en | |||||||
| タイトル | A cell library development methodology for character proJection | |||||||
| 言語 | ||||||||
| 言語 | jpn | |||||||
| 資源タイプ | ||||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_18gh | |||||||
| 資源タイプ | technical report | |||||||
| 著者所属 | ||||||||
| 財団法人九州システム情報技術研究所 | ||||||||
| 著者所属 | ||||||||
| 九州大学 | ||||||||
| 著者所属 | ||||||||
| 九州大学 | ||||||||
| 著者所属 | ||||||||
| イービーム | ||||||||
| 著者所属 | ||||||||
| 東京エレクトロン | ||||||||
| 著者所属 | ||||||||
| イービーム | ||||||||
| 著者所属 | ||||||||
| 東京エレクトロン | ||||||||
| 著者所属 | ||||||||
| イービーム | ||||||||
| 著者所属 | ||||||||
| 九州大学 | ||||||||
| 著者所属 | ||||||||
| 九州大学 | ||||||||
| 著者所属 | ||||||||
| 東京大学 | ||||||||
| 著者所属(英) | ||||||||
| en | ||||||||
| ISIT | ||||||||
| 著者所属(英) | ||||||||
| en | ||||||||
| kyushu University | ||||||||
| 著者所属(英) | ||||||||
| en | ||||||||
| kyushu University | ||||||||
| 著者所属(英) | ||||||||
| en | ||||||||
| ebeam | ||||||||
| 著者所属(英) | ||||||||
| en | ||||||||
| Tokyo Electron | ||||||||
| 著者所属(英) | ||||||||
| en | ||||||||
| ebeam | ||||||||
| 著者所属(英) | ||||||||
| en | ||||||||
| Tokyo Electron | ||||||||
| 著者所属(英) | ||||||||
| en | ||||||||
| ebeam | ||||||||
| 著者所属(英) | ||||||||
| en | ||||||||
| kyushu University | ||||||||
| 著者所属(英) | ||||||||
| en | ||||||||
| kyushu University | ||||||||
| 著者所属(英) | ||||||||
| en | ||||||||
| Universitu of Tokyo | ||||||||
| 著者名 |
杉原, 真
× 杉原, 真
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| 著者名(英) |
Makoto, SUGIHARA
× Makoto, SUGIHARA
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| 論文抄録 | ||||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||||
| 内容記述 | 本稿では，電子ビーム直描で用いられるキャラクタプロジェクション法のスループットを向上するセルライプラリ開発手法について議論する．第一に，整数計画法に基づいたセル選択手法を提案する.製造時間 すなわちショット数が最小になるように，キャラクタプロジェクション法で描画するセルと，VSBで描画するセルを選択する.次に，セルの反転の有無が回路の面積と遅延に及ぼす影響を調査する.反転されたセルはCPアバーチヤマスク上では異なるものとして扱われるために，反転されたセルを削減することはより多くのセルをCPアバーチヤマスク上に搭載できることを意味する．最後に，ケーススタディを行い，提案手法の有効性を検証する. | |||||||
| 論文抄録(英) | ||||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||||
| 内容記述 | We propose a cell library development methodology for throughput enhancement of electron beam direct-write (EBDW) systems. First, an ILP (Integer Linear Programming)-based cell selection is proposed for EBDW systems in which both of the character projection (CP) and the variable shaped beam (VSB) methods are available, in order to minimize the number of electron beam (EB) shots, that is, time to fabricate chips. Secondly, the inInence of cell directions on area and delay time of chips is examined. The examination helps to reduce the number of EB shots with a little deterioration of area and delay time because unnecessary directions of cells can be removed to increase the number of cells on a CP aperture mask. Finally, a case study is shown in which the numbers of EB shots are examined under several cases. | |||||||
| 書誌レコードID | ||||||||
| 収録物識別子タイプ | NCID | |||||||
| 収録物識別子 | AA11451459 | |||||||
| 書誌情報 |
情報処理学会研究報告システムLSI設計技術（SLDM） 巻 2005, 号 102(2005-SLDM-121), p. 197-202, 発行日 2005-10-21 |
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| Notice | ||||||||
| SIG Technical Reports are nonrefereed and hence may later appear in any journals, conferences, symposia, etc. | ||||||||
| 出版者 | ||||||||
| 言語 | ja | |||||||
| 出版者 | 情報処理学会 | |||||||
