@techreport{oai:ipsj.ixsq.nii.ac.jp:00027063,
 author = {杉原, 真 and 高田, 大河 and 中村, 健太 and 松永, 裕介 and 村上, 和彰 and Makoto, SUGIHARA and Taiga, TAKATA and Kenta, NAKAMURA and Yusuke, MATSUNAGA and Kazuaki, MURAKAMI},
 issue = {28(2006-SLDM-124)},
 month = {Mar},
 note = {本稿では，キャラクタプロジェクション法の描画能力を高めるために，描画面積を最適する手法について議論する．キャラクタプロジェクション法は電子ビーム直描やフォトマスクの製造に応用可能な描画技術である．描画装置の減価償却の意味で，キャラクタプロジェクション法の描画時間は電子デバイスやフォトマスクの価格を決定するものであり，削減されることが望ましい．本稿では，CPマスク上に配列上に搭載されるキャラクタの大きさを最適化することによって，描画時間を最小にする手法を提案する．提案手法により，既存の手法と比べて最大72％の描画時間を削減した．, We propose a character size optimization technique to enhance the throughput of maskless lithography as well as photomask manufacture. The number of electron beam shots to draw the patterns of circuits is a dominant factor in the manufacture time and the cost for devices. Our technique is capable of drastically reducing them by optimizing the size of characters, which are the patterns to project and are placed on CP masks. Experimental results show that our technique reduced 72.0% of EB shots in the best case, comparing with the ad hoc character sizing.},
 title = {キャラクタプロジェクシヨン法における描画面積の最適化による描画時間の削減},
 year = {2006}
}