ナノ人工物メトリクスにおけるフーリエスペクトルに基づくクローン検知

• Item type: Symposium(1)
• 公開日: 2024-10-15
• タイトル / 言語: ja
• タイトル: ナノ人工物メトリクスにおけるフーリエスペクトルに基づくクローン検知
• タイトル / 言語: en
• タイトル: Fourier Spectrum Based Clone Detection in Nano-Artifact Metrics
• 言語: jpn
• キーワード / 主題Scheme: Other
• キーワード / 主題: 人工物メトリクス，クローン検知，フーリエスペクトル
• 資源タイプ / 資源タイプ識別子: http://purl.org/coar/resource_type/c_5794
• 資源タイプ: conference paper
• 著者所属: 横浜国立大学
• 著者所属: 横浜国立大学
• 著者所属: 横浜国立大学
• 著者所属: 国立研究開発法人 産業技術総合研究所
• 著者所属(英): en
• 著者所属(英): Yokohama National University
• 著者所属(英): en
• 著者所属(英): Yokohama National University
• 著者所属(英): en
• 著者所属(英): Yokohama National University
• 著者所属(英): en
• 著者所属(英): National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
• 著者名: 宮本, 岩麒; 吉田, 直樹; 吉岡, 克成; 松本, 勉
• 著者名(英): Iwaki, Miyamoto; Naoki, Yoshida; Katsunari, Yoshioka; Tsutomu, Matsumoto
• 論文抄録 / 内容記述タイプ: Other
• 論文抄録 / 内容記述: 人工物メトリクスは，人工物固有の特徴を用いて当該人工物を認証する技術であり，製品のセキュアかつ簡便な管理を可能にする．この技術は，正当な製造者ですら再現困難な特徴を利用できるため，高い「耐クローン性」が期待される．先行研究では，電子線リソグラフィにおける電子線レジスト・ピラーの倒壊現象を利用したナノメートルオーダーのランダムな凹凸構造を用いたシステムが提案されてきた．このシステムにおいて，高い耐クローン性を実現するためには，最先端のナノテクノロジーを用いて作製されるクローンに対して耐性を持つことが重要である．これまで，作製されたクローンに対する対策として，特定の周波数フィルタリングを画像前処理として適用し，クローンと模倣元のオリジナルの差異を増幅する手法が提案されてきた．しかし，クローンに対してロバストなシステムを構築するためは，クローンとオリジナルの全体的な特徴の差異を把握することが重要である．本研究では，オリジナルとクローン画像のフーリエスペクトルを解析し，クローンがオリジナルを再現する際に生じる差異を明らかにする．さらに，解析の結果を受け，効果的なクローン検知手法を提案する．
• 論文抄録(英) / 内容記述タイプ: Other
• 論文抄録(英) / 内容記述: Artifact metrics is a technology that authenticates artifacts using their unique features, enabling secure and convenient product management. This technology is expected to be 'clone-resistant' as artifact uses features that is difficult to replicate, even for the manufacturer. Previous studies have proposed a system targeting the nanometer order random irregularities on the silicon surface fabricated based on the electron-beam resist pillar collapsing phenomenon in electron-beam lithography, as an artifact. To achieve high clone resistance, it is crucial to withstand clones created using cutting-edge nanotechnology. While previous approaches applied specific spatial frequency filtering as image preprocessing to amplify differences between clones and their original counterparts, comprehensively understanding the overall feature differences is essential for building systems robust against clones. This study analyzes the fourier spectra of original and clone images to systematically elucidate the differences arising during clone reproduction. Based on these findings, we propose an effective clone detection method utilizing the revealed spectral differences.
• 書誌情報: コンピュータセキュリティシンポジウム2024論文集; p. 1579-1586, 発行日 2024-10-15
• 出版者 / 言語: ja
• 出版者: 情報処理学会