LUTベースの光強度推定による高速なSRAF最適化手法

• Item type: SIG Technical Reports(1)
• 公開日: 2022-11-21
• タイトル: LUTベースの光強度推定による高速なSRAF最適化手法
• タイトル / 言語: en
• タイトル: A fast SRAF optimization used LUT based point intensity calculation
• 言語: jpn
• キーワード / 主題Scheme: Other
• キーワード / 主題: 回路モデリングおよびDFM手法
• 資源タイプ / 資源タイプ識別子: http://purl.org/coar/resource_type/c_18gh
• 資源タイプ: technical report
• 著者所属: 東京工業大学工学院情報通信系
• 著者所属: 東京工業大学工学院情報通信系
• 著者所属(英): en
• 著者所属(英): Department of Information & Communications Engineering, Tokyo Institute of Technology
• 著者所属(英): en
• 著者所属(英): Department of Information & Communications Engineering, Tokyo Institute of Technology
• 著者名: 齊藤, 颯太; 高橋, 篤司
• 著者名(英): Sota, Saito; Atsushi, Takahashi
• 論文抄録 / 内容記述タイプ: Other
• 論文抄録 / 内容記述: 近年，集積回路の微細化に伴い光リソグラフィにおいて転写パターンの忠実度の低下やプロセス変動耐性の低下が問題となっている．そのため OPC（Optical Proximity Correction）が行われるが，OPC に必要な時間は大きく，高い忠実度，高いプロセス変動耐性を高速に達成する OPC が求められている．本研究では SRAF（Sub Resolution Assisting Feature）に着目し，LUT をベースとした特定の点の光強度計算を用いて SRAF を高速に最適化する手法を提案する．
• 論文抄録(英) / 内容記述タイプ: Other
• 論文抄録(英) / 内容記述: Recent advances in technology nodes have led to problems in optical lithography such as reduced fidelity of transferred patterns and reduced robustness against process variations. However, the computation time required for OPC (Optical Proximity Correction) is large, and OPC that can achieve high fidelity and high process variation tolerance in short computation time is required. In this paper, we focus on SRAF (Sub Resolution Assisting Feature) and propose a method for fast optimization of SRAF using LUT based point intensity calculation.
• 書誌レコードID / 収録物識別子タイプ: NCID
• 書誌レコードID / 収録物識別子: AA11451459
• 書誌情報: 研究報告システムとLSIの設計技術（SLDM）; 巻 2022-SLDM-200, 号 22, p. 1-6, 発行日 2022-11-21
• ISSN / 収録物識別子タイプ: ISSN
• ISSN / 収録物識別子: 2188-8639
• Notice: SIG Technical Reports are nonrefereed and hence may later appear in any journals, conferences, symposia, etc.
• 出版者 / 言語: ja
• 出版者: 情報処理学会