@techreport{oai:ipsj.ixsq.nii.ac.jp:00212783,
 author = {三吉, 健太 and 五十里, 翔吾 and 藤原, 万櫻 and 鬼塚, 真},
 issue = {3},
 month = {Sep},
 note = {日本における特許被引用数の時間変化に対して集団記憶モデルを応用した分析を行った．具体的には，理論に基づく分析手法の構築のため，集団記憶のモデルの一つである bi-exponential model が，米国での先行研究と同様に日本でも妥当であるかを検討し，先行研究と符合する結果を得た．そして，構築したモデルから算出したパラメータをもとに，実証的分析を実施した．本研究の成果は，日本の特許データにおいても bi-exponential model が妥当なモデルであること，技術セクションごとに異なる時間減衰が見られること，新規出願数が増えるほど時間減衰が早くなること，被引用数の多い特許に特有の時間減衰パターンが見られることを発見したことである．本研究は，日本の特許データを用いて時間減衰の理論的解析を行った初の研究である．本研究で行ったモデルの検証及び様々な実証分析は，分析ツールの整備として，また新たな仮説を導くための情報源として，日本における特許研究に貢献すると期待される．, The current study analyzes the temporal decay of patent citation in Japan. We investigated whether the bi-exponential model, which is an application of the collective memory model, applies as well to Japan as it does to previous studies in the United States. Then, empirical analyses are conducted based on the parameters calculated from the validated model. The key findings of this study are that the bi-exponential model applies well to the Japanese patent data, that different temporal decay is observed for different technology sections, that the temporal decay becomes faster as the number of new applications increases, and that there is a unique decay pattern for patents with a large number of citations. The current study first attempted a theoretical understanding of temporal decay using Japanese patent data. The model validation and various empirical analyses conducted in this study are expected to contribute to future patent research, both as a development of analytical tools and as a source of information for deriving new hypotheses.},
 title = {日本における特許被引用数の時間減衰モデルの開発と実証：集団記憶のbi-exponential modelを応用して},
 year = {2021}
}