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  1. シンポジウム
  2. シンポジウムシリーズ
  3. DAシンポジウム
  4. 2021

ELT(Enclosed Layout Transistor)による耐放射線CMOS集積回路の設計

https://ipsj.ixsq.nii.ac.jp/records/212645
https://ipsj.ixsq.nii.ac.jp/records/212645
e2bd11ba-388f-4d6a-9143-946834ff060b
名前 / ファイル ライセンス アクション
IPSJ-DAS2021030.pdf IPSJ-DAS2021030.pdf (2.2 MB)
Copyright (c) 2021 by the Information Processing Society of Japan
オープンアクセス
Item type Symposium(1)
公開日 2021-08-25
タイトル
タイトル ELT(Enclosed Layout Transistor)による耐放射線CMOS集積回路の設計
タイトル
言語 en
タイトル Radiation-Hard CMOS Integrated Circuit Design with ELT (Enclosed Layout Transistor)
言語
言語 jpn
キーワード
主題Scheme Other
主題 信頼性
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_5794
資源タイプ conference paper
著者所属
東京工業大学科学技術創成研究院ナノセンシング研究ユニット/東京工業大学科学技術創成研究院未来産業技術研究所
著者所属
東京工業大学科学技術創成研究院ナノセンシング研究ユニット
著者所属
東京工業大学科学技術創成研究院ナノセンシング研究ユニット
著者所属
東京工業大学科学技術創成研究院ナノセンシング研究ユニット
著者所属
東京工業大学科学技術創成研究院ナノセンシング研究ユニット
著者所属
東京工業大学科学技術創成研究院未来産業技術研究所
著者所属
東京工業大学科学技術創成研究院未来産業技術研究所
著者所属
東京工業大学科学技術創成研究院未来産業技術研究所
著者所属
東京工業大学科学技術創成研究院未来産業技術研究所
著者所属
東京工業大学科学技術創成研究院未来産業技術研究所
著者所属
東京工業大学科学技術創成研究院ナノセンシング研究ユニット/東京工業大学科学技術創成研究院未来産業技術研究所
著者所属(英)
en
Nano Sensing Unit, Institute of Innovative Research, Tokyo Institute of Technology / Laboratory for Future Interdisciplinary Research of Science and Technology, Institute of Innovative Research, Tokyo Institute of Technology
著者所属(英)
en
Nano Sensing Unit, Institute of Innovative Research, Tokyo Institute of Technology
著者所属(英)
en
Nano Sensing Unit, Institute of Innovative Research, Tokyo Institute of Technology
著者所属(英)
en
Nano Sensing Unit, Institute of Innovative Research, Tokyo Institute of Technology
著者所属(英)
en
Nano Sensing Unit, Institute of Innovative Research, Tokyo Institute of Technology
著者所属(英)
en
Laboratory for Future Interdisciplinary Research of Science and Technology, Institute of Innovative Research, Tokyo Institute of Technology
著者所属(英)
en
Laboratory for Future Interdisciplinary Research of Science and Technology, Institute of Innovative Research, Tokyo Institute of Technology
著者所属(英)
en
Laboratory for Future Interdisciplinary Research of Science and Technology, Institute of Innovative Research, Tokyo Institute of Technology
著者所属(英)
en
Laboratory for Future Interdisciplinary Research of Science and Technology, Institute of Innovative Research, Tokyo Institute of Technology
著者所属(英)
en
Laboratory for Future Interdisciplinary Research of Science and Technology, Institute of Innovative Research, Tokyo Institute of Technology
著者所属(英)
en
Nano Sensing Unit, Institute of Innovative Research, Tokyo Institute of Technology / Laboratory for Future Interdisciplinary Research of Science and Technology, Institute of Innovative Research, Tokyo Institute of Technology
著者名 石原, 昇

× 石原, 昇

石原, 昇

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吉田, 僚一郎

× 吉田, 僚一郎

吉田, 僚一郎

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木村, 有佐

× 木村, 有佐

木村, 有佐

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安藤, 幹

× 安藤, 幹

安藤, 幹

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大島, 佑太

× 大島, 佑太

大島, 佑太

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鍋屋, 信介

× 鍋屋, 信介

鍋屋, 信介

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平川, 顕二

× 平川, 顕二

平川, 顕二

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岩瀬, 正幸

× 岩瀬, 正幸

岩瀬, 正幸

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小笠原, 宗博

× 小笠原, 宗博

小笠原, 宗博

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依田, 孝

× 依田, 孝

依田, 孝

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伊藤, 浩之

× 伊藤, 浩之

伊藤, 浩之

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著者名(英) Noboru, Ishihara

× Noboru, Ishihara

en Noboru, Ishihara

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Ryoichro, Yoshida

× Ryoichro, Yoshida

en Ryoichro, Yoshida

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Arisa, Kimura

× Arisa, Kimura

en Arisa, Kimura

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Motoki, Ando

× Motoki, Ando

en Motoki, Ando

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Yuta, Oshima

× Yuta, Oshima

en Yuta, Oshima

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Shinsuke, Nabeya

× Shinsuke, Nabeya

en Shinsuke, Nabeya

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Kenji, Hirakawa

× Kenji, Hirakawa

en Kenji, Hirakawa

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Masayuki, Iwase

× Masayuki, Iwase

en Masayuki, Iwase

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Munehiro, Ogasawara

× Munehiro, Ogasawara

en Munehiro, Ogasawara

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Takashi, Yoda

× Takashi, Yoda

en Takashi, Yoda

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Hiroyuki, Ito

× Hiroyuki, Ito

en Hiroyuki, Ito

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論文抄録
内容記述タイプ Other
内容記述 宇宙,原子力等の放射線照射環境への適用を目的として放射線耐性に優れる集積回路の研究開発が進められている.ELT (Enclosed Layout Transistor) は,通常の SLT(Stripe Layout Transistor)に比べ放射線耐性に優れるが,標準の集積回路のデザインキットでは,その特性モデルが提供されていない.本論文では,まず,0.18μm 技術による MOSFET への Co60γ線放照射結果(TID : Total Ionizing Dose Effect)について述べ,放射線耐性に優れる ELT を用いた CMOS 集積回路設計のための簡易的なトランジスタ特性モデルを明らかにする.具体的には SLT からの換算による ELT 直流特性モデルと,放射線照射によるしきい値,少数キャリア移動度,リーク電流への影響を考慮した簡易モデルを示す.さらに,作成モデルにより 1Grad の高放射線量までの影響を推定するとともに ELT による回路設計指針を示す.
論文抄録(英)
内容記述タイプ Other
内容記述 Research and development of integrated circuits with radiation hardness are ongoing to apply to radiation-irradiated environments such as in space and in systems using radiation beams. The ELT (Enclosed Layout Transistor) is superior in radiation hardness compared to ordinary SLT (Stripe Layout Transistor), but its characteristic model is not provided in the standard integrated circuit design kit. In this paper, the results of Co60γ ray irradiation (TID: Total Ionizing Dose Effect) on the MOSFET's using the 0.18-μm technology are describe firstly, and then a simple MOS transistor model for integrated circuit design using ELT, which has radiation hardness. Specifically, an ELT DC characteristic model converted from SLT and a simple model considering the effects of irradiation on the threshold value, minority carrier mobility, and leakage current are shown. In addition to estimating the effect up to 1-Grad irradiation, the concept of circuit design with ELT is also introduced.
書誌情報 DAシンポジウム2021論文集

巻 2021, p. 167-172, 発行日 2021-08-25
出版者
言語 ja
出版者 情報処理学会
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Ver.1 2025-01-19 17:26:04.079674
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