適応型光近接効果補正技術の領域分割による高速化手法の提案と検証

• Item type: Trans(1)
• 公開日: 2007-03-15
• タイトル: 適応型光近接効果補正技術の領域分割による高速化手法の提案と検証
• タイトル / 言語: en
• タイトル: A Fast Method of Adaptive Optical Proximity Correction Using Region Segmentation
• 言語: jpn
• キーワード / 主題Scheme: Other
• キーワード / 主題: オリジナル論文
• 資源タイプ / 資源タイプ識別子: http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
• 資源タイプ: journal article
• 著者所属: 産業技術総合研究所次世代半導体研究センター半導体MIRAIプロジェクト
• 著者所属: 筑波大学大学院システム情報工学研究科
• 著者所属: 産業技術総合研究所次世代半導体研究センター半導体MIRAIプロジェクト
• 著者所属: 産業技術総合研究所次世代半導体研究センター半導体MIRAIプロジェクト
• 著者所属: 産業技術総合研究所次世代半導体研究センター半導体MIRAIプロジェクト 筑波大学大学院システム情報工学研究科
• 著者所属(英): en
• 著者所属(英): MIRAI-ASRC, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology（AIST）
• 著者所属(英): en
• 著者所属(英): Graduate School of Systems and Information Engineering, University of Tsukuba
• 著者所属(英): en
• 著者所属(英): MIRAI-ASRC, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology（AIST）
• 著者所属(英): en
• 著者所属(英): MIRAI-ASRC, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology（AIST）
• 著者所属(英): en
• 著者所属(英): MIRAI-ASRC, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology（AIST）, Graduate School of Systems and Information Engineering, University of Tsukuba
• 著者名: 野里, 博和; 松縄, 哲明; 坂無, 英徳; 村川, 正宏; 樋口, 哲也
• 著者名(英): Hirokazu, Nosato; Tetsuaki, Matsunawa; Hidenori, Sakanashi; Masahiro, Murakawa; Tetsuya, Higuchi
• 論文抄録 / 内容記述タイプ: Other
• 論文抄録 / 内容記述: 本論文では，半導体リソグラフィの光近接効果補正において，マスクレイアウトパターンを領域分割し，それぞれの領域を並列処理する高速化手法を提案した．我々は，すでに，半導体リソグラフィのマスク製造コストの削減を目指し，最適化手法を用いた適応型光近接効果補正技術（適応型OPC技術）を提案している．この適応型OPC 技術の特徴は，レイアウト後にOPC 調整する際，その調整で考慮する影響範囲を隣接するセルに限定しても，OPC 精度を落とさずに調整することができる点である．この技術の検証に用いる光学シミュレーションの計算時間は，計算面積の2 乗に比例して増加するので，なるべく計算面積を小さくすることができれば，OPC の計算時間を抑えることができる．そこで，本論文では，適応型OPC 技術の特徴を活かし，より効果的にOPC 計算を高速化するため，計算するレイアウトパターンを領域分割し，それぞれの領域を並列処理する高速化手法を提案する．提案手法を用いた実験の結果，並列処理の代表的なマスタスレーブモデルと比較して，約2倍の高速化を実現し，最先端プロセスで求められている要求精度3%を満たすOPC 精度を得ることができた．本提案手法を導入することで，適応型OPC 技術が，最先端プロセスにおける大規模なレイアウトパターンにも適用できる見通しを得た．
• 論文抄録(英) / 内容記述タイプ: Other
• 論文抄録(英) / 内容記述: This paper proposes a fast method of adaptive optical proximity correction (OPC) using region segmentation. We have demonstrated the adaptive OPC technique using genetic algorithm which is an efficient optimization technique based on population genetics. When this method is applied to full-chip OPC, it is difficult to optimize OPC features efficiently. This is because the adaptive OPC method can only correct the OPE which is dependent on neighboring patterns. In order to overcome this problem, we propose a fast method of adaptive OPC using region segmentation. This proposed method partitions mask layout by region segmentation for adaptive OPC methods. Moreover, this region segmentation can use parallel processing for OPC optimization. In a conducted experiment, we successfully corrected OPC features by the proposed OPC method with six processors, which was two times faster than the Master-Slave model with six processors.
• 書誌レコードID / 収録物識別子タイプ: NCID
• 書誌レコードID / 収録物識別子: AA11464803
• 書誌情報: 情報処理学会論文誌数理モデル化と応用（TOM）; 巻 48, 号 SIG6(TOM17), p. 75-85, 発行日 2007-03-15
• ISSN / 収録物識別子タイプ: ISSN
• ISSN / 収録物識別子: 1882-7780
• 出版者 / 言語: ja
• 出版者: 情報処理学会