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  1. 研究報告
  2. システムとLSIの設計技術(SLDM)
  3. 2015
  4. 2015-SLDM-173

アナログバウンダリスキャンを用いた三次元積層後のTSV抵抗の精密計測法の実装について

https://ipsj.ixsq.nii.ac.jp/records/146160
https://ipsj.ixsq.nii.ac.jp/records/146160
4936a293-3c52-49e4-9242-e2dd8b12acd2
名前 / ファイル ライセンス アクション
IPSJ-SLDM15173034.pdf IPSJ-SLDM15173034.pdf (2.0 MB)
Copyright (c) 2015 by the Institute of Electronics, Information and Communication Engineers This SIG report is only available to those in membership of the SIG.
SLDM:会員:¥0, DLIB:会員:¥0
Item type SIG Technical Reports(1)
公開日 2015-11-24
タイトル
タイトル アナログバウンダリスキャンを用いた三次元積層後のTSV抵抗の精密計測法の実装について
タイトル
言語 en
タイトル Implementation of Precision Resistance Measurement of TSVs Using Analog Boundary Scan
言語
言語 jpn
キーワード
主題Scheme Other
主題 予測と測定
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_18gh
資源タイプ technical report
著者所属
愛媛大学大学院理工学研究科
著者所属
愛媛大学大学院理工学研究科
著者所属
愛媛大学大学院理工学研究科/富士通株式会社
著者所属
愛媛大学大学院理工学研究科
著者所属
愛媛大学大学院理工学研究科
著者所属(英)
en
Graduate School of Science and Engineering, Ehime University
著者所属(英)
en
Graduate School of Science and Engineering, Ehime University
著者所属(英)
en
Graduate School of Science and Engineering, Ehime University / FUJITSU LTD.
著者所属(英)
en
Graduate School of Science and Engineering, Ehime University
著者所属(英)
en
Graduate School of Science and Engineering, Ehime University
著者名 王, 森レイ

× 王, 森レイ

王, 森レイ

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香川, 敬祐

× 香川, 敬祐

香川, 敬祐

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亀山, 修一

× 亀山, 修一

亀山, 修一

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樋上, 喜信

× 樋上, 喜信

樋上, 喜信

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高橋, 寛

× 高橋, 寛

高橋, 寛

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著者名(英) Senling, Wang

× Senling, Wang

en Senling, Wang

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Keisuke, Kagawa

× Keisuke, Kagawa

en Keisuke, Kagawa

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Shuichi, Kameyama

× Shuichi, Kameyama

en Shuichi, Kameyama

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Yoshinobu, Higami

× Yoshinobu, Higami

en Yoshinobu, Higami

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Hiroshi, Takahashi

× Hiroshi, Takahashi

en Hiroshi, Takahashi

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論文抄録
内容記述タイプ Other
内容記述 近年,半導体デバイスの高性能化・多機能化を向上させるために,Through Silicon Via(TSV) を利用した三次元積層技術の実用化が進められている.一方,製造不良による TSV での欠陥 (ボイド,ピンホールなど) は積層したチップ間の接続障害の重要な原因のひとつである.製品の歩留まり改善及び品質向上のためには積層後のチップ間の TSV 抵抗を高精度で計測することは非常に効果的な手段となる.文献 [4] ではアナログバウンダリスキャン技術を利用した TSV 抵抗の精密計測法を提案した.本研究ではアナログバウンダリスキヤンによる TSV 抵抗計測回路の回路設計及び実装設計を行い,提案した TSV 抵抗精密計測法の実現性を検証した.
論文抄録(英)
内容記述タイプ Other
内容記述 Through Silicon Vias (TSV) based Three-Dimensional Stacking technology provides a solution to enable the continuing development of high-performance/multifunction ICs. Manufacturing defects such as Voids/Pinholes within the TSV have emerged as a big concern that they may cause interconnect failure between the stacked dies in 3D-IC. Measuring/Monitoring the resistance of TSVs is necessary for improving the yield and quality of 3D-IC. In [4], authors have introduced a novel method to measure the resistance of high density post-bond TSVs with high precision by using Analog Boundary-Scan technology. In this paper, we design and implement the proposed method on a chip and evaluate its area overhead.
書誌レコードID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AA11451459
書誌情報 研究報告システムとLSIの設計技術(SLDM)

巻 2015-SLDM-173, 号 34, p. 1-6, 発行日 2015-11-24
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 2188-8639
Notice
SIG Technical Reports are nonrefereed and hence may later appear in any journals, conferences, symposia, etc.
出版者
言語 ja
出版者 情報処理学会
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Ver.1 2025-01-20 18:05:25.505581
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