@inproceedings{oai:ipsj.ixsq.nii.ac.jp:00144818,
 author = {井原, 岳志 and 本江, 俊幸 and 高橋, 篤司 and Takeshi, Ihara and Toshiyuki, Hongo and Atsushi, Takahashi},
 book = {DAシンポジウム2015論文集},
 month = {Aug},
 note = {Self-Aligned Quadruple Patterning(SAQP) は 14nm ノードにおける有望な製造技術である．SAQP のための様々な配線アルゴリズムが提案されているが，高密度な SAQP のための配線パターンを効率的に 生成することは容易ではない． SAQP のための配線パターンを効率的に生成するために部分的に色が塗ら れたグリッドが提案されているが，そのグリッド上で許容できる配線パターンを見つけることは容易でな い．グリッド上の SAQP の配線パターンは 3 つの種類の配線から構成される．その中で， 3 つ目のタイプの 配線は折れ曲がり制約を持つ．一般的な幅優先探索アルゴリズムでは，領域が混雑すると，許容できる配線 を見つけるのにたびたび失敗する．本稿では，探索において終端ピンの周りに禁止グリッドを設けること で，折れ曲がり制約を満たした配線パターンの生成の失敗を抑制する配線アルゴリズムを提案する．実験に よって，効率よく SAQP のための配線パターンが得られていることを示した．},
 pages = {125--130},
 publisher = {情報処理学会},
 title = {Self-Aligned Quadruple Patterningのための配線パターンの効率的な生成手法},
 volume = {2015},
 year = {2015}
}