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アイテム
アウトライン・フォント文字生成LSI
https://ipsj.ixsq.nii.ac.jp/records/117454
https://ipsj.ixsq.nii.ac.jp/records/11745469d7c211-d244-4e13-881a-77660d7e87cb
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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KJ00001335727.pdf (186.2 kB)
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| Item type | National Convention(1) | |||||
|---|---|---|---|---|---|---|
| 公開日 | 1989-10-16 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | アウトライン・フォント文字生成LSI | |||||
| タイトル | ||||||
| 言語 | en | |||||
| タイトル | An Outline Font Character Generating LSI | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | jpn | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_5794 | |||||
| 資源タイプ | conference paper | |||||
| 著者所属 | ||||||
| (株)東芝半導体技術研究所 | ||||||
| 著者所属 | ||||||
| (株)東芝半導体技術研究所 | ||||||
| 著者所属 | ||||||
| (株)東芝半導体技術研究所 | ||||||
| 著者所属 | ||||||
| (株)東芝半導体技術研究所 | ||||||
| 著者所属(英) | ||||||
| en | ||||||
| Toshiba Corp. Semiconductor Device Engineering Lab. | ||||||
| 著者所属(英) | ||||||
| en | ||||||
| Toshiba Corp. Semiconductor Device Engineering Lab. | ||||||
| 著者所属(英) | ||||||
| en | ||||||
| Toshiba Corp. Semiconductor Device Engineering Lab. | ||||||
| 著者所属(英) | ||||||
| en | ||||||
| Toshiba Corp. Semiconductor Device Engineering Lab. | ||||||
| 論文抄録 | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | 近年デスクトップ・パブリッシング(DTP)の普及に伴い、高品位文字の要求が高まってる。DTPでは、いろいろな書体やサイズの文字フォントを扱えるだけでなく、文字の大きさを自由に変えられ、回転や白抜き等も容易に出来ることが必須である。これは、従来のドット・フォントでは難しい。そこでアウトライン・フォントが脚光を浴びている。図1にアウトライン・フォントの例を示す。アウトライン・フォント文字の生成は一般に以下の手順で行われる。(1)前処理ステップ アウトライン・データから拡大、縮小、回転を含めた座標変換を行い描画パラメータを得るステップ。(2)アウトライン(外枠)描画ステップ 描画パラメータから外枠を描画する処理ステップ。(3)塗潰し処理ステップ 外枠で囲まれた閉領域を塗潰す処理ステップ。以上の何れのステップもソフトウェア処理では時間がかかるが、(1)前処理ステップについては最近の数値演算プロセッサの性能の向上により高速化されつつあるのに対し、(2),(3)のステップは依然としてボトルネックとして残っていた。フォント・グラフィック・アクセラレータは、塗潰しとBezier曲線発生に独自のアルゴリズムを採用し、ハードウェア化することで、この2つの処理ステップを高速に処理することを実現した。 | |||||
| 書誌レコードID | ||||||
| 収録物識別子タイプ | NCID | |||||
| 収録物識別子 | AN00349328 | |||||
| 書誌情報 |
全国大会講演論文集 巻 第39回, 号 データ処理, p. 816-817, 発行日 1989-10-16 |
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| 出版者 | ||||||
| 言語 | ja | |||||
| 出版者 | 情報処理学会 | |||||
