2026-04-17T03:31:33Z
https://ipsj.ixsq.nii.ac.jp/oai
oai:ipsj.ixsq.nii.ac.jp:00225464
2025-01-19T12:48:07Z
1164:2036:11089:11180
CapsNetを用いた高解像度ウェハマップの欠陥パターン分類法におけるScratch再構成に関する考察
山中, 祐輝
永村, 美一
新井, 雅之
福本, 聡
Yuki, Yamanaka
Yoshikazu, Nagamura
Masayuki, Arai
Satoshi, Fukumoto
システム設計・製造関連手法
半導体集積回路の製造におけるウェハマップの欠陥パターンは，不良発生の原因究明のための重要な情報を有している．近年，機械学習を用いたその分類技術が多数提案されている．本研究では，CapsNet を用いてウェハ上の欠陥パターンを分類及び再構成した先行研究 [1] をさらに進めて，高解像度ウェハマップとして人工的に作成したオリジナルのデータセットにおける Scratch 欠陥パターンの再構成画像を正確に出力させることを目的とする．今回は，Scratch 欠陥パターンを 4 種類に分類し，それぞれの欠陥パターンに対する再構成画像の課題と CapsNet のデコーダの構造による影響について考察した．
technical report
情報処理学会
2023-03-16
application/pdf
研究報告システムとLSIの設計技術（SLDM）
17
2023-SLDM-202
1
6
2188-8639
AA11451459
https://ipsj.ixsq.nii.ac.jp/record/225464/files/IPSJ-SLDM23202017.pdf
jpn