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oai:ipsj.ixsq.nii.ac.jp:00220326 2025-01-19T14:36:12Z 1164:1579:10818:11010

CapsNetを用いた高解像度ウェハマップの欠陥パターン分類法に関する考察 A Study on Hi-Resolution Wafer Map Defect Pattern Classification Using CapsNet 山中, 祐輝 永村, 美一 新井, 雅之 福本, 聡 Yuki, Yamanaka Yoshukazu, Nagamura Masayuki, Arai Satoshi, Fukumoto システムアーキテクチャ・デバイス 半導体集積回路の製造におけるウェハマップの欠陥パターンは，不良発生の原因究明のための重要な情報を有している．近年，機械学習を用いたその分類技術が多数提案されている．本研究では，CapsNet を用いてウェハ上の欠陥パターンを分類した先行研究 [1] をさらに進めて，ダイ数が多いウェハに相当する高解像度なウェハマップでの分類精度を向上させることを目的とする．今回は，低解像度および高解像度ウェハマップそれぞれで分類精度を評価し，異なる解像度のウェハマップに対する分類の課題と CapsNet のデコーダの構造による影響について考察した． technical report 情報処理学会 2022-10-04 application/pdf 研究報告システム・アーキテクチャ（ARC） 13 2022-ARC-250 1 5 2188-8574 AN10096105 https://ipsj.ixsq.nii.ac.jp/record/220326/files/IPSJ-ARC22250013.pdf jpn