2026-03-10T13:39:23Z https://ipsj.ixsq.nii.ac.jp/oai

oai:ipsj.ixsq.nii.ac.jp:00225464 2025-01-19T12:48:07Z 1164:2036:11089:11180

CapsNetを用いた高解像度ウェハマップの欠陥パターン分類法におけるScratch再構成に関する考察 山中, 祐輝 永村, 美一 新井, 雅之 福本, 聡 Yuki, Yamanaka Yoshikazu, Nagamura Masayuki, Arai Satoshi, Fukumoto システム設計・製造関連手法 半導体集積回路の製造におけるウェハマップの欠陥パターンは，不良発生の原因究明のための重要な情報を有している．近年，機械学習を用いたその分類技術が多数提案されている．本研究では，CapsNet を用いてウェハ上の欠陥パターンを分類及び再構成した先行研究 [1] をさらに進めて，高解像度ウェハマップとして人工的に作成したオリジナルのデータセットにおける Scratch 欠陥パターンの再構成画像を正確に出力させることを目的とする．今回は，Scratch 欠陥パターンを 4 種類に分類し，それぞれの欠陥パターンに対する再構成画像の課題と CapsNet のデコーダの構造による影響について考察した． 情報処理学会 2023-03-16 jpn technical report https://ipsj.ixsq.nii.ac.jp/records/225464 2188-8639 AA11451459 研究報告システムとLSIの設計技術（SLDM） 2023-SLDM-202 17 1 6 https://ipsj.ixsq.nii.ac.jp/record/225464/files/IPSJ-SLDM23202017.pdf application/pdf 3.1 MB