WEKO3
アイテム
オンチップリークモニタ回路を用いたNBTI測定手法の提案と有効性
https://ipsj.ixsq.nii.ac.jp/records/98148
https://ipsj.ixsq.nii.ac.jp/records/98148c24f4e72-e000-4d04-bf92-1ce7362312d0
名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
---|---|---|
![]()
2100年1月1日からダウンロード可能です。
|
Copyright (c) 2014 by the Institute of Electronics, Information and Communication Engineers
This SIG report is only available to those in membership of the SIG. |
|
SLDM:会員:¥0, DLIB:会員:¥0 |
Item type | SIG Technical Reports(1) | |||||||
---|---|---|---|---|---|---|---|---|
公開日 | 2014-01-21 | |||||||
タイトル | ||||||||
タイトル | オンチップリークモニタ回路を用いたNBTI測定手法の提案と有効性 | |||||||
タイトル | ||||||||
言語 | en | |||||||
タイトル | Methodology for NBTI measurement using an on-chip leakage monitor circuit | |||||||
言語 | ||||||||
言語 | jpn | |||||||
キーワード | ||||||||
主題Scheme | Other | |||||||
主題 | 性能・製造性考慮手法 | |||||||
資源タイプ | ||||||||
資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_18gh | |||||||
資源タイプ | technical report | |||||||
著者所属 | ||||||||
芝浦工業大学大学院理工学研究科電気電子情報工学専攻 | ||||||||
著者所属 | ||||||||
芝浦工業大学工学部情報工学科 | ||||||||
著者所属(英) | ||||||||
en | ||||||||
Graduate School of Science and Engineering, Shibaura Institute of Technology | ||||||||
著者所属(英) | ||||||||
en | ||||||||
Department of Information Science and Engineering, Shibaura Institute of Technology | ||||||||
著者名 |
佐藤, 貴晃
× 佐藤, 貴晃
|
|||||||
著者名(英) |
Takaaki, Sato
× Takaaki, Sato
|
|||||||
論文抄録 | ||||||||
内容記述タイプ | Other | |||||||
内容記述 | 近年の微細化によって、トランジスタの経年劣化現象が LSI の正常動作を妨げる要因として顕著になってきている。そのため、この経年劣化現象から引き起こされる回路の劣化度合いを測定し、LSI が正常動作できるように、補正をかける手法が必要になる。本研究ではトランジスタ経年劣化現象の中でも、特に代表的な NBTI(Negative Bias Tmperature InstabiIity) に対し劣化の測定手法を提案し有効性を示す。なお、この NBTI 測定手法は機器に組み込まれた状態で、回路上のリーク量から NBTI による劣化をモニタする方式である。 | |||||||
論文抄録(英) | ||||||||
内容記述タイプ | Other | |||||||
内容記述 | Miniaturization in recent years, LSI's aging has become prominent as a factor that prevents the normal operation. By measure the aging and add a correction, LSI returns to normal operation. This paper is among the transistor aging phenomenon the proposed measurement method of NBTI(Negative Bias Temperature Instability) degradation. Further, this NBTI measurement technique is a method in a state on-chip the device, to monitor the degradation of NBTI leak rate of the circuit. | |||||||
書誌レコードID | ||||||||
収録物識別子タイプ | NCID | |||||||
収録物識別子 | AA11451459 | |||||||
書誌情報 |
研究報告システムLSI設計技術(SLDM) 巻 2014-SLDM-164, 号 31, p. 1-6, 発行日 2014-01-21 |
|||||||
Notice | ||||||||
SIG Technical Reports are nonrefereed and hence may later appear in any journals, conferences, symposia, etc. | ||||||||
出版者 | ||||||||
言語 | ja | |||||||
出版者 | 情報処理学会 |