WEKO3
アイテム
適応型光近接効果補正技術の領域分割による高速化手法の提案と検証
https://ipsj.ixsq.nii.ac.jp/records/33115
https://ipsj.ixsq.nii.ac.jp/records/33115625831e8-ae1f-4859-91b3-2494ab835828
名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
---|---|---|
![]() |
Copyright (c) 2006 by the Information Processing Society of Japan
|
|
オープンアクセス |
Item type | SIG Technical Reports(1) | |||||||
---|---|---|---|---|---|---|---|---|
公開日 | 2006-09-15 | |||||||
タイトル | ||||||||
タイトル | 適応型光近接効果補正技術の領域分割による高速化手法の提案と検証 | |||||||
タイトル | ||||||||
言語 | en | |||||||
タイトル | A Fast Method of Adaptive Optical Proximity Correction using Region Segmentation | |||||||
言語 | ||||||||
言語 | jpn | |||||||
資源タイプ | ||||||||
資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_18gh | |||||||
資源タイプ | technical report | |||||||
著者所属 | ||||||||
半導体MIRAIプロジェクト,産業技術総合研究所次世代半導体研究センター | ||||||||
著者所属 | ||||||||
筑波大学大学院システム情報工学研究科 | ||||||||
著者所属 | ||||||||
半導体MIRAIプロジェクト,産業技術総合研究所次世代半導体研究センター | ||||||||
著者所属 | ||||||||
半導体MIRAIプロジェクト,産業技術総合研究所次世代半導体研究センター | ||||||||
著者所属 | ||||||||
半導体MIRAIプロジェクト,産業技術総合研究所次世代半導体研究センター 筑波大学大学院システム情報工学研究科 | ||||||||
著者所属(英) | ||||||||
en | ||||||||
MIRAI,National Institute of Advanced Industrial Science and Technology(AIST) | ||||||||
著者所属(英) | ||||||||
en | ||||||||
University of Tsukuba | ||||||||
著者所属(英) | ||||||||
en | ||||||||
MIRAI,National Institute of Advanced Industrial Science and Technology(AIST) | ||||||||
著者所属(英) | ||||||||
en | ||||||||
MIRAI,National Institute of Advanced Industrial Science and Technology(AIST) | ||||||||
著者所属(英) | ||||||||
en | ||||||||
MIRAI,National Institute of Advanced Industrial Science and Technology(AIST) | ||||||||
著者所属(英) | ||||||||
en | ||||||||
University of Tsukuba | ||||||||
著者名 |
野里, 博和
× 野里, 博和
|
|||||||
著者名(英) |
HIROKAZU, NOSATO
× HIROKAZU, NOSATO
|
|||||||
論文抄録 | ||||||||
内容記述タイプ | Other | |||||||
内容記述 | 本論文では,半導体リソグラフィの光近接効果補正において,マスクレイアウトパターンを領域分割し,それぞれの領域を並列処理する高速化手法を提案した.我々は,既に,半導体リソグラフィのマスク製造コストの削減を目指し,最適化手法を用いた適応型光近接効果補正技術(適応型OPC技術)を提案している.この適応型OPC技術の特徴は,レイアウト後にOPC調整をする際,その調整で考慮する影響範囲を隣接するセルに限定しても,OPC精度を落とさずに調整することができる点である.そこで,本論文では,適応型OPC技術の特徴を生かし,より効果的にOPC計算を高速化するため,計算するレイアウトパターンを領域分割し,それぞれの領域を並列処理する高速化手法を提案する.提案手法を用いた実験の結果,並列処理の代表的なマスタースレーブモデルと比較して,約2倍の高速化を実現し,最先端プロセスで求められている要求精度3%を満たすOPC精度を得ることができた. | |||||||
論文抄録(英) | ||||||||
内容記述タイプ | Other | |||||||
内容記述 | This paper proposes a fast method of adaptive optical proximity correction(OPC) using region segmentation. We have demonstrated the adaptive OPC technique using genetic algorithm which is an efficient optimization technique based on population genetics. When thsi method is applied to full-chip OPC, it is difficult to optimize OPC features efficietly. This is because the adaptive OPC method can only correct the OPE which is depended on neighboring patterns. In order to overcome this problem, we propose a fast method of adaptive OPC using region segmentation. This proposed method partitions mask layout by region segmentation for adaptive OPC method with six processors, which was two times faster than the Master-Slave model with six processors. | |||||||
書誌レコードID | ||||||||
収録物識別子タイプ | NCID | |||||||
収録物識別子 | AN10505667 | |||||||
書誌情報 |
情報処理学会研究報告数理モデル化と問題解決(MPS) 巻 2006, 号 95(2006-MPS-061), p. 57-60, 発行日 2006-09-15 |
|||||||
Notice | ||||||||
SIG Technical Reports are nonrefereed and hence may later appear in any journals, conferences, symposia, etc. | ||||||||
出版者 | ||||||||
言語 | ja | |||||||
出版者 | 情報処理学会 |