Item type |
SIG Technical Reports(1) |
公開日 |
2003-10-23 |
タイトル |
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タイトル |
CG SiliconTFTを用いたガラス基板上のCPU開発 |
タイトル |
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言語 |
en |
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タイトル |
CPU on a Glass Substrate Using CG Silicon TFT |
言語 |
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言語 |
jpn |
資源タイプ |
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資源タイプ識別子 |
http://purl.org/coar/resource_type/c_18gh |
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資源タイプ |
technical report |
著者所属 |
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シャープ株式会社 |
著者所属 |
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シャープ株式会社 |
著者所属 |
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シャープ株式会社 |
著者所属 |
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株式会社半導体エネルギー研究所 |
著者所属 |
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株式会社半導体エネルギー研究所 |
著者所属 |
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株式会社半導体エネルギー研究所 |
著者所属(英) |
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en |
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Sharp Corporation |
著者所属(英) |
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en |
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Sharp Corporation |
著者所属(英) |
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en |
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Sharp Corporation |
著者所属(英) |
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en |
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Semiconductor Energy Laboratory Corporation |
著者所属(英) |
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en |
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Semiconductor Energy Laboratory Corporation |
著者所属(英) |
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en |
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Semiconductor Energy Laboratory Corporation |
著者名 |
李, 副烈
久保田, 靖
今井, 繁規
加藤, 清
黒川, 義元
小山, 潤
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著者名(英) |
Bu-Yeol, Lee
Yasushi, Kubota
Shigeki, Imai
Kiyoshi, Kato
Yoshiyuki, Kurokawa
Jun, Koyama
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論文抄録 |
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内容記述タイプ |
Other |
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内容記述 |
ガラス基板上にCG Silicon TFTを用いて,世界で始めてCPUを製作し,動作を確認することができた.ガラス基盤にはコーニング1737ガラス(転移温度640℃)を用い,全て550℃以下のプロセスで試作を行った.CPUとして8ビット・プロセッサを搭載し,ゲート長2umのルールで試作した.電源電圧5V,動作周波数3MHzでの動作を確認することができた. |
論文抄録(英) |
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内容記述タイプ |
Other |
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内容記述 |
For the first time, an entire CPU has been successfully fabricated on a grass substrate suitable for LCD mass production. By using the advanced CG-Silicon Thin Film Transistor (TFT) process, with a maximum processing temperature 55oC, it was possible to use Corning 1737 glass as the substrate. The fabricated 8-bit CPU contains approximately 13,000 TFTs, and occupies an area of 169 mm square. The CPU operates successfully in a system with a clock frequency of 3MHz and a supply voltage of 5V. |
書誌レコードID |
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収録物識別子タイプ |
NCID |
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収録物識別子 |
AA11451459 |
書誌情報 |
情報処理学会研究報告システムLSI設計技術(SLDM)
巻 2003,
号 105(2003-SLDM-111),
p. 123-126,
発行日 2003-10-23
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Notice |
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SIG Technical Reports are nonrefereed and hence may later appear in any journals, conferences, symposia, etc. |
出版者 |
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言語 |
ja |
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出版者 |
情報処理学会 |