可変成形型電子ビーム露光装置のためのレイアウトのL型分割手法

• Item type: SIG Technical Reports(1)
• 公開日: 2015-11-24
• タイトル: 可変成形型電子ビーム露光装置のためのレイアウトのL型分割手法
• タイトル / 言語: en
• タイトル: Layout Decomposition into L-Shaped Parts for Variable Shaped-Beam Mask Writer
• 言語: jpn
• キーワード / 主題Scheme: Other
• キーワード / 主題: 配置配線
• 資源タイプ / 資源タイプ識別子: http://purl.org/coar/resource_type/c_18gh
• 資源タイプ: technical report
• 著者所属: 東京農工大学大学院工学府電気電子工学専攻
• 著者所属: 東京農工大学大学院工学府電気電子工学専攻
• 著者所属(英): en
• 著者所属(英): Department of Electrical and Electronic Engineering, Tokyo University of Agriculture and Technology
• 著者名: 星, 克也; 藤吉, 邦洋
• 著者名(英): Katsuya, Hoshi; Kunihiro, Fujiyoshi
• 論文抄録 / 内容記述タイプ: Other
• 論文抄録 / 内容記述: LSI のマスク製造に用いられている電子ビーム露光装置は矩形形状のビームしか照射できない為，レイアウトを矩形に分割して 1 つずつ露光していくのだが，LSI の高集積化により露光する矩形数が増え，これに伴ってマスク製造コストが増大している．そこで L 型形状のビームを照射できるように露光装置を改良する事を前提に，レイアウトを矩形と L 型に分割する手法が提案されたが，この手法は必ずしも矩形と L 型の合計個数が最小となる様にレイアウトを分割可能であるとは限らない．そこで本稿では最小個数に分割する動的計画法を用いたアルゴリズムを提案する．
• 論文抄録(英) / 内容記述タイプ: Other
• 論文抄録(英) / 内容記述: Since electron beam mask writers for LSI mask fabrication can only expose a rectangle shaped-beam, a layout pattern has to be decomposed into a set of rectangles, and then they are fabricated by the mask writing machine. Because of the increase of transistors in one chip, the number of rectangles in a layout is increased, so manufacturing cost is also increased. So, a method which decomposes a layout into rectangles and L-Shaped polygons was proposed on the assumption that mask writers can expose a L-Shaped beam. However, this method cannnot always obtain a set of polygons of the minimum number. In this paper, we propose a new algorithm which can decompose a layout into minimum number of rectangles and L-Shaped polygons using dynamic programming.
• 書誌レコードID / 収録物識別子タイプ: NCID
• 書誌レコードID / 収録物識別子: AA11451459
• 書誌情報: 研究報告システムとLSIの設計技術（SLDM）; 巻 2015-SLDM-173, 号 19, p. 1-6, 発行日 2015-11-24
• ISSN / 収録物識別子タイプ: ISSN
• ISSN / 収録物識別子: 2188-8639
• Notice: SIG Technical Reports are nonrefereed and hence may later appear in any journals, conferences, symposia, etc.
• 出版者 / 言語: ja
• 出版者: 情報処理学会