@techreport{weko_192654_1,
   author	 = "東,梨奈 and 小平,行秀 and 松井,知己 and 高橋,篤司 and 児玉,親亮 and 野嶋,茂樹",
   title	 = "0-1二次計画法によるプロセスばらつきを考盧したモデルベースマスク補正手法",
   year 	 = "2018",
   institution	 = "会津大学コンピュータ理工学部, 会津大学コンピュータ理工学部, 東京工業大学工学院, 東京工業大学工学院, 東芝メモリ株式会社, 東芝メモリ株式会社",
   number	 = "40",
   month	 = "nov"
}